半導體廢水處理工藝有哪些?
半導體集成電路行業是一個信息產業開展的基本,該行業在將來將會有迅猛的開展。隨著制造范圍的一直擴張,其制作運動對環境所形成的影響也會日益增添。芯片制造企業程度各有特征,創立契合行業特征的實在可行的消費廢水廢物的解決形式,對保護環境都有著深遠的影響。半導體集成電路行業制程須要運用幾百種化學品,廢水廢氣處理工藝請求極高。
半導體廢水處理工藝:
1、凝結積淀解決法
廢水中氟的形態除有氫氟酸、氟化銨和氟化鈉等以外,還有六氟硅酸等。清除這些化合物中含氟量用得最多的方式是增添Ca(OH)r。以上氟化物與Ca(0H)2反映生成溶解度低的氟化鈣,這就是所謂的積淀分別解決法。
2、離子替換解決法
離子替換解決法重要是為了勤儉用水,使清洗。體系排出的廢水高度污染到達再應用之目標。用離子替換解決法時,解決水中含氟濃度可到達1mg/l以下。此外還能同時去除氟離子以外的陽離子和陰離子。
半導體廢水處理工藝特征:
1、三低一零
本體系淤泥產出量低、臭氣產出量低、能量需求量低,化學品須要量最小或為零。
2、資源應用
經本體系解決后的回用水,滿意嚴厲的工廠回用水品德請求,可供給純水體系或間接回用到消費線。
3、性價比高
本體系操作便捷,抗沖擊負荷,占地緊湊,穩固性高,運轉老本低,經過少量成功案例驗證。