隨著電子等智能產品在我們生活中的逐漸普及，電子工業，尤其是集成電路芯片加工技術，已成為炙手可熱的技術領域，作為電子產品的核心部件，集成電路的質量直接決定著電子整機產品的性能和可靠性。

在集成電路生產過程中，在硅氧化、光刻、外延、擴散、引線蒸發等許多工序之前，都要用物理或化學的方法除去硅片表面的污染物和自身的氧化物，使其達到凈化要求，但也會產生大量的廢水。伴隨著我國“節能減排”的方針政策的實施，在電子工業用水大戶的環評報告中明確提出，除廢水排放標準外，還要求廢水必須達到一定的再生利用率，實現循環經濟。

目前，電子廢水中，尤其是電子工業含氟含氨氮廢水的處理，已成為水處理行業的突出難題之一。電子業含氟氨氮廢水具有水量大，污染物組成復雜，污染程度高，易生化性差，總溶解固體鹽(TDS)，氨氮和氟化物含量高等特點。因為這類廢水的可生化性較差(BOD/COD<0.1)，而且由于城市污水處理廠的工藝技術限制，出水中的總氮往往不達標，容易導致排放水體富營養化，尤其是對某些特殊污染物(如氟)無法有效去除，只能通過稀釋來降低濃度，在提高能耗的同時增加企業成本。根據IC清洗廢水的特點，在處理時應考慮采用回用方式處理廢水，設計了IC清洗廢水回用系統用于處理該廢水。